PROCESO DE LITOGRAFIA NANO IMPRESION

El proceso de Nanoimprint Lithography (NIL) se utiliza para replicar estructuras nanométricas en polímeros termoplásticos aplicando presión y temperatura controladas.

La nanoimpresión permite utilizar el polímero estructurado como máscara de grabado. En este caso, el proceso se realiza en dos etapas:

 Etapa 1: obtención de las nanoestructuras sobre una capa fina de polímero
Etapa 2: grabado mediante plasma de oxígeno (polímero residual), grabado húmedo o bien grabado seco para iones reactivos ( Reactive Ion Etching , RIE).

La resolución lateral (dimensión mínima de las estructuras estampables) es de 30 nm.

Temperatura de trabajo: hasta 250ºC

 Rango de presión de trabajo: de 5 a 70 bar. La presión se aplica de manera hidráulica, alcanzando una uniformidad en el proceso de 10 nm sobre la máxima superficie estampable.

 Tamaño de los substratos: entre 10 y 65 mm de diámetro.

Características del proceso:

• Estampaciones sobre polímeros termoplásticos con resoluciones laterales máximas de 30 nm.

• Permite estampar con sustratos de medidas entre 10 y 65 mm de diámetro. • La presión se aplica de manera hidráulica, consiguiendo una uniformidad en el proceso de 10 nm sobre la máxima superficie posible.

• Se puede aplicar una presión de 5 a 70 bar y llegar a una temperatura de 250ºC.